瓷砖抛光过程建模与仿真.pdf

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资源描述
れ电工捏本2015年第44卷第10
制造业信息
DOI:10.3969/Jj-isn.1009-9492.2015.10.015
瓷砖抛光过程建模与仿真
朱成就
广东エ业大学机电工程学院,广东户广州510006)
摘要:瓷砖的抛磨影响因素众多,实际磨削加工时容易出现漏抛、返抛现象。对陶瓷抛光机磨头进行运动学分析,并基于不同
粒度号的磨粒在一定压力下的加工深度模型,探讨抛光机磨头转速、横梁摆动频率、传送速度对瓷砖抛光加工表面均匀性的影
响,然后结合磨削机理使用 MATLAB软件对陶瓷抛光过程进行仿真。最后使用多组不同的运动参数进行模拟试验,分析不同条
件下抛光的均匀性影响
关键词:陶瓷抛光机;均匀性;运动参数;仿真
中图分类号:TH16
文献标识码:A文章编号:1009-9492(2015)10-0061-05
The Modeling and Simulation Study upon Ceramic Tile Polishing Process
ZHU Cheng-jiu
College of Mechanical and Electronic Engineering, Guangdong University of Technology, Guangzhou510006, China
Abstract: Many actors affect the polishing of ceramic ile. n the actual grinding process, it is easy to occur the phenomenon of without
polishing in certain areas or polishing again. This paper mainly analyzes kinematies of polishing head in polisher and based on the model of
gning e th uner ea wt iffen rain z u e ilene of r ational speed of the abrasive disk, frequency of
the lateral oscillation forward and speed of the polishing line on homogeneity of polishing surface, then combined with the grinding
mechanism, using MATLAB software to simulate the polished ceramic process modeling. Finally, using multiple groups of different
parameters to simulate, analyzed the effects of the uniformity in different onditions of polishin
Key words: polisher; uniformity; movement parameter; simulation
0引言
磨削量的分布规律
为达到表面平整、光亮、色泽鲜明等生产要
但是这些模型都是以抛光机平面运动轨迹为
求,瓷砖刮平工序后需要进入抛光机抛磨。在实研究,忽略磨粒垂直方向的磨削状况,并没有反
际生产中,抛光工艺复杂,影响抛光质量的因素映出真实的磨削情况,而且大多数都是针对同
众多,其中抛光机的运动参数对抛光制品表面的规格参数的磨粒进行研究,没有结合抛光机上所
均匀性影响规律是国内外研究的热点问题。 Sousa有磨粒粒度号对瓷砖加工的相互作用。针对这些
等建立了臍粒在抛磨过程的运动学方程,分析运问题,本文在考虑不同粒度号磨粒的垂直磨削量
动参数对加工过程的影响。 Sousa和 Aurich通过对抛光均匀性影响的基础上,对抛光运动进行仿
建立瓷砖表面抛磨的时间模型,分析瓷砖横向与真与试验研究。
机器摆动的联合运动对加工表面的影响并作优化1抛光机工作原理
分析。国内,许雄超、王世旺即建立了瓷砖抛光均
本文以一种新型的摆动式抛光机为原型,陶
匀性的计算机仿真模型,探讨了抛磨机各运动参瓷抛光机的加工原理如图1所示。抛光机整体是
数和几何参数对抛光砖磨削均匀性的影响。陈彩横梁带动所有磨头做前后摆动,而每个磨头有6
如等结合 Preston方程,综合考虑磨削速度、磨个磨块。抛光机每个磨头工作原理如图1(a)所
削时间与磨削量的影响建立分析模型,得出当量示。图1(b)为磨块座展开的示意图。其工作原
广东省自然科学基金(编号:501130093)
收稿日期:2015-04-07
61?
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